Uso de indutores de enraizamento em estacas semilenhosas de Hibisco (Hibiscus rosa-sinensis L.)

Christian Buscher Von Teschenha Eberlin, Ana Paula Ribeiro, Regina Maria Monteiro Castilho

Abstract


Hibiscus rosa-sinensis L., pertence à família Malvaceae, originário da Ásia tropical, é um arbusto fibroso e lenhoso, de 3-5 m de altura, que não tolera geadas. Possui formas de folhas estreitas, variegadas ou não, sendo suas flores pequenas, solitárias, com cores principais, vermelha, rosa e branca, formadas no decorrer de quase todo o ano. É cultivado como planta isolada e para a formação de renques como cerca viva ou simplesmente em conjuntos. Visando avaliar diferentes promotores de enraizamento em estacas semilenhosas de Hibiscus rosa-sinensis L. (hibisco) realizou-se este trabalho. O experimento foi conduzido no período de 26 de fevereiro a 6 de abril de 2007, em casa de vegetação, modelo Poly Venlo (duas águas), pertencente a Universidade Estadual Paulista "Julio Mesquita Filho” UNESP – Ilha Solteira / SP. Utilizaram-se cinco tratamentos: T1 – sem indutor (testemunha); T2 - Max Vigor pó; T3 - AIB pó 1000 ppm; T4 - Clone Gel 1000 ppm de AIB e T5 - Radimax (0,3g de pó/L de água) por 24 hs. As estacas medianas foram coletadas com 20 cm de comprimento e colocadas para enraizar em jardineiras pretas, preenchidas com Plantimax. Após 40 dias realizou-se as avaliações de porcentagem de enraizamento, porcentagem de brotação e número médio de brotos por estaca. O tratamento com Radimax foi o que apresentou maior porcentagem de enraizamento (100%) e maior média de número de brotos por estacas (4,11). A maior porcentagem de brotação foi observada no tratamento com Clone Gel (95%), porém não se mostrou muito superior aos demais. Concluiu-se neste trabalho que o tratamento com Radimax foi eficiente no enraizamento de estacas semilenhosas de hibisco (Hibiscus rosa-sinensis L.), auxiliando na produção de mudas por estaquia.

Keywords


Hibiscus rosa-sinensis L.; estacas; indutores de enraizamento.



DOI: https://doi.org/10.14295/oh.v13i0.1758

ISSN: 2447-536X

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